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    半导体废气处理原理与技术解(jiě)析

    发(fā)布时间:2025-06-20浏览次数:71

    半导体废气处理原理与(yǔ)技术解析

    半导(dǎo)体废气(qì)处理原理与(yǔ)技术解析

    一(yī)、半导体废气来源与特性

    半导(dǎo)体制造涉及薄(báo)膜沉积、光刻、刻蚀、清洗等复杂工艺,过程中(zhōng)会释(shì)放多种废气:

    酸性气体:如HCl、HF、NOx,源(yuán)于清洗、蚀刻工艺,具(jù)有强腐蚀性。

    碱性气体:如NH3,来自显(xiǎn)影、去胶环节,易溶于水。

    有机废气(VOCs):如异丙醇、丙(bǐng)酮,来(lái)自光(guāng)刻胶(jiāo)挥发,部分(fèn)有(yǒu)毒且易燃。

    特(tè)殊气体:如(rú)硅烷(wán)(SiH4),具自燃性,处理风险高。

    粉尘颗粒物(wù):含重金(jīn)属或硅基化合物,需预处理去除(chú)。

    废气(qì)特点:

    排气(qì)量大、浓(nóng)度低(dī):需高效处理技术。

    危(wēi)害性:腐蚀设备、污染环境,部分气(qì)体致癌或爆炸。

    二(èr)、半导体废气(qì)处理原理与技术

    处(chù)理需结合废气特(tè)性,采用(yòng)多级组(zǔ)合工艺,确保达标排放(fàng)。

    1. 预处理阶段

    粉(fěn)尘去除:布袋除尘(chén)器或静电(diàn)除尘装置,防止堵塞后(hòu)续设备。

    湿度调节:冷凝或干燥设备,优(yōu)化反应条件。

    2. 核心处理技术

    (1)酸性气体处理

    碱液(yè)喷淋塔:

    原理:NaOH或Ca(OH)₂溶液与酸(suān)性气体中和(hé)(如HCl+NaOH→NaCl+H₂O)。

    优势:去除效率>95%,适合高风量(liàng)、低浓度废(fèi)气(qì)。

    案例:某(mǒu)企业用三级喷淋塔处(chù)理(lǐ)蚀刻废(fèi)气(qì),HF去除(chú)率达99.2%。

    (2)碱(jiǎn)性(xìng)气体处理

    酸液(yè)喷淋塔:

    原理:H2SO4溶液与NH3中(zhōng)和(2NH3+H2SO4→(NH4)2SO4)。

    应用:处理(lǐ)显影、去(qù)胶工序废气。

    (3)有机废(fèi)气(VOCs)处理

    低浓度VOCs:

    活性炭吸附浓缩(suō)-催化燃烧:吸附后脱附浓缩,催化燃(rán)烧(shāo)转化为CO₂和(hé)H₂O,无二次污染(rǎn)。

    高浓度VOCs:

    直接焚烧(RTO):分(fèn)解效率>99%,需控制温(wēn)度避免NOx生成。

    大风量、低(dī)浓度场景(jǐng):

    沸石转轮吸附-焚烧(shāo):余热回收(shōu),降(jiàng)低运行成本。

    (4)特殊气(qì)体处理(lǐ)

    燃烧分解(jiě)装置:

    原理:控制SiH4与O2比例(SiH4+2O2→SiO2+2H2O),防爆(bào)设计,配备泄漏监测与自动灭(miè)火系统(tǒng)。

    3. 深(shēn)度净化(huà)与排放

    干式吸附塔:活性(xìng)炭或分子筛去除残留(liú)污(wū)染(rǎn)物。

    在线监测(CEMS):实时检测(cè)排放浓度(dù),确保(bǎo)符合《半导体行业污(wū)染物排放标准》(如上海标(biāo)准对HCl、VOCs限值)。

    三、技术挑战与未来趋势

    挑战(zhàn):

    效率与成本:需平衡(héng)处理(lǐ)效率与设备投资、运行费用(yòng)。

    环境适(shì)应性:湿度、温度波动影响处(chù)理效果。

    安全风险:特(tè)殊气体(如(rú)硅烷)需防爆设计。

    未来(lái)趋势(shì):

    技术(shù)融合:等离子体协同催(cuī)化技术提升低浓度VOCs处理效率。

    智能化监控:AI预测设备故(gù)障,动(dòng)态调整参(cān)数,降(jiàng)低运维成本(běn)。

    绿色环保(bǎo):废(fèi)气洗涤(dí)液回(huí)收利用,减少二次污染。

    国产化替代:国内企业(如(rú)盛剑(jiàn)环(huán)境)逐步突破技(jì)术壁垒,提升(shēng)市场份额。

    四、典型应用(yòng)案例

    案例1:某半导体工(gōng)厂(chǎng)采用预处理(粉尘去除+湿度调节)+核心处理(碱液喷(pēn)淋(lín)塔+活性(xìng)炭吸附(fù)-催(cuī)化燃(rán)烧+燃烧分解装置)+深度净化(huà)(干式吸附塔),实现废(fèi)气高效处(chù)理,排放浓度远低(dī)于国标。

    案例(lì)2:芯(xīn)片(piàn)封装(zhuāng)基地通过碱液喷淋(lín)塔处理(lǐ)HF、HCl,去除率>95%,搭(dā)配湿(shī)式电除尘(chén)器(qì)去除微细颗粒(lì)物,显著改善周边空(kōng)气质量(liàng)。

    五、总结

    半导(dǎo)体废气处理需根据废气成(chéng)分(fèn)(酸性/碱性/有机(jī)/特殊气体)选择(zé)组合工艺,结(jié)合预(yù)处理(lǐ)、核心处理、深度(dù)净化(huà)环节,确保(bǎo)达标(biāo)排(pái)放。未来,技术将向高效、智能、环保方向发展,助力半导(dǎo)体产业可持续发展。


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